الضخ

Pumping الضخ

هو عملية ضخ ذرات الماده من المستويات الواطئه لها عموما إلى المستويات الأعلى منها. أن نوع المادة المستخدمة لتوليد الليزر(الوسط الفعال) يحدد طريقة الضخ للمنظومة ويعتمد الضخ على:

1- نوع الوسط الفعال( صلب،سائل،غاز).
2- نمط التشغيل(مستمر آو نبضي).
3- طبيعة عنصر الضخ ( كهربائي،كيمياوي،ضوئي ).
4- عرض نطاق (طيف)الامتصاص لشعاع الضخ من قبل الوسط الفعال الذي يجب ان يمتص الاشعاع بشكل جيد.
طرق الضخ
هنالك طرق ضخ مختلفة تختلف باختلاف مصدر الطاقة اللازم لتوليد التأهيل العكسي لمستويات الطاقة او نطاقها للذرة او الجزيئه او الايون ضمن إحدى خطط الضخ المستخدمة . فللحصول على انبعاث محفز في مدى الضوء المرئي لابد من توفير التأهيل العكسي لمستويين للطاقة في الوسط الفعال المطلوب أثارته ويتم هذا وفق خطة ضخ معينه لضخ الطاقة من مستوى طاقه واطئ الى مستوى طاقه عالي .تتم عملية ضخ الطاقه بثلاثة طرق هي:


1-الضخ الضوئي optical pumping
يسلط ضوء ذو شدة عالية من مصباح يحتوي على غاز معين (غاز الزينون , الكريبتون أو النتروجين ) على مادة ما , والتي يراد تهيجها من مستوى طاقة ( ) إلى مستوى طاقة بحيث ويعتمد استعمال نوع الغاز في المصباح على مستويات الطاقة للمادة المراد تهيجها ويوضع المصباح حول المادة الفعالة كما يتضح من الشكل (1) وتستعمل هذه الطريقة لضخ جزيئات الياقوت أو النديميوم للحصول على الليزر في المنطقة الحمراء أو المنطقة تحت الحمراء على التعاقب .
كما إن هناك طريقة أخرى لعملية الضخ إذ يستعمل ليزر ذو طول موجي معين